DIN 50450-3:1991-03

Testing of materials for semiconductor technology; determination of impurities in carrier gases and doping gases; determination of methane impurity in H2, O2, N2, Ar and He by using a flame ionization detector (FID). (Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie; Bestimmung von Verunreinigungen in Träger- und Dotiergasen; Bestimmung von Methanverunreinigungen in Wasserstoff, Sauerstoff, Stickstoff, Argon und Helium mit einem Flammenionisationsdetektor (FID).)