DIN 50453-2:1990-10

system DIN 1990-10-01 12 PDF 195 0 2026-07-04 17:04

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Testing of materials for semiconductor technology; determination of etch rates of etching mixtures; silicium-dioxid coating; optical method. (Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie; Bestimmung der Ätzrate von Ätzmischungen; Siliciumdioxid-Schichten; Optisches Verfahren.)

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