DIN 50453-2:2023-08

system DIN 2023-08-01 13 PDF 278 0 2026-07-04 17:04

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Testing of materials for semiconductor technology - Determination of etch rates of etching mixtures - Part 2: Silicon-dioxide coating, optical method. (Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung der Ätzrate von Ätzmischungen - Teil 2: Siliciumdioxid-Schichten, Optisches Verfahren.)

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